Дифрактометр с сверхвысокой разрешающей способностью
Рентгеновские дифрактометры супер высокого разрешения для тонких пленок и монокристаллических материалов
ПРИМЕНЕНИЕ:
РЕНТГЕНОВСКАЯ РЕФЛЕКТОМЕТРИЯ (XRR)
аналитический метод исследования тонкослойных структур, поверхностей и границ раздела с использованием эффекта полного внешнего отражения рентгеновского излучения.
В исследованиях по тонкопленочным материалам одной из прикладных задач рефлектометрии этого типа является создание сложных покрытий, обладающих специфическими свойствами, которые необходимы для ряда технических приложений.
Достоинства рентгеновской рефлектометрии заключаются в том, что она позволяет определять:
Шероховатость поверхностей и границ раздела сред (типичный размер неоднородностей – менее 5 нм),
Толщину слоя материала (обычно для слоев тоньше 200 нм),
Распределение плотности электронов,
Внутреннее строение сложных структур.
ПОЛУЧЕНИЯ КРИВОЙ КАЧАНИЯ (ROCKING CURVES)
Позволяет получать зависимость интенсивнсти отражения от угла поворота кристалла.
КАРТИРОВАНИЕ ОБРАТНОГО ПРОСТРАНСТВА
Картирование обратного пространства представляет собой метод рентгеновской дифракции высокого разрешения для измерения карты обратного пространства (RSM). Эти карты вокруг точек обратной решетки позволяют получить дополнительную информацию, помимо информации, полученной по однолинейным спектрам, например, кривые качания с высоким разрешением. RSM обычно используются для интерпретации смещения пика, уширения пика или наложения пиков.
ОПЦИИ
• Многослойное паралельно пучковое зеркало
• Германиевые монохроматоры с 2 и 4 отражениями
• Ступень X, Y
• Ступень наклона Rx, Ry
• Eulerian Cradle с вращающимся phi
• In-plane сканирующий детектор
• Автоматическая щель переменного расхождения
• Система автоматической юстировки - легко переключаться между различными настройками рентгеновского луча.
• Ячейки для создания специальных сред
• Держатели для образцов, чувствительные к воздуху
